氟和氮他们形成的化合物，应该是三氟化氮，它们的化学式是NF3，

三氟化氮（nitrogen trifluoride）化学式NF3，在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体，是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体，在离子蚀刻时裂解为活性氟离子，这些氟离子对硅和钨化合物，高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性（对氧化硅和硅）。